Este laboratório está essencialmente vocacionado para a produção de películas finas (semicondutoras, metálicas e isolantes) utilizando para tal uma vasta gama de tecnologias de ponta (CVD, PECVD, HW-CVD, E-Gun, Pulverização catódica), possibilitando assim aos alunos um contacto directo com sistemas tecnológicos. Este laboratório possui características especiais pois está inserido numa câmara limpa, onde tem de existir um controle bastante rigoroso de partículas no ar, temperatura, pressão, humidade relativa, rede de água desmineralizada e desionizada. Possui também uma rede própria de gases especiais de grau electrónico composto por: SiH4; PH3; B2H6; N2; CH4; Ar; H2; He; SF6; O2. As botijas de gás encontram-se colocadas no exterior do edifício nas condições regulamentadas para o efeito, para este tipo de equipamento.
Este laboratório é composto por 4 sistemas de deposição de silício amorfo/policristalino e ligas à base de silício. Os sistemas de deposição, para além dos reactores em aço-inoxidável, são compostos por sistemas de vácuo primário (bombas rotatórias e “dry-star”) e secundário (bombas turbomoleculares) e respectivos sensores e transdutores de pressão; controladores de temperatura; sistemas de radiofrequência e caixas adaptadoras de impedância e controladores de fluxo de massa. Para além destes sistemas de deposição, possui ainda um evaporador térmico resistivo utilizado para a deposição de películas metálicas. Este sistema é composto por uma câmara de vidro, um sistema de vácuo primário e secundário, respectivos controladores de pressão, controlador de temperatura e monitor da razão de evaporação.
Apoia as disciplinas de Materiais Semicondutores, Tecnologia de Produção de Microcircuitos, Materiais para a Optoelectrónica, Electrónica do Estado Sólido, Microelectrónica, Projecto/Estágio e Mestrado em Engenharia de Materiais.