Lic. Maria Rodrigues Farinha
Título: “SF6/O2 plasma etching: optimizing the core process and going into 3d engineering”
Orientador: Doutor Rafael Taboryski
Coorientadora: Doutora Joana Maria Dória Vaz Pinto Morais Sarmento
Composição do Júri:
Presidente:
- Doutor Hugo Manuel Brito Águas, Professor Associado do Departamento de Ciência dos Materiais da NOVA School of Science and Technology | FCT NOVA.
Vogais:
- Doutor José Miguel Penteado Neiva Silva Fernandes, Research Engineer, in the Micro- and Nanofabrication Department at International Iberian Nanotechnology Laboratory – INL (Arguente);
- Doutor Rafael Taboryski, Full Professor of National Centre for Nano Fabrication and Characterization at Technical University of Denmark (Orientador).
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